當前位置：首頁 > 技術(shù)文章
在半導(dǎo)體制造業(yè)中，晶圓作為芯片的基礎(chǔ)載體，其表面質(zhì)量直接決定了最終產(chǎn)品的性能和可靠性。晶圓在生產(chǎn)過程中，由于多種因素的影響，如材料純度、制造工藝、設(shè)備精度等，表面可能會出現(xiàn)各種缺陷，如劃痕、顆粒污染、裂紋、氧化層異常等。這些缺陷不僅會降低芯...
光刻技術(shù)實際上是一種精密表面加工技術(shù)，它借助于一定波長的激光光源以及選擇性的化學腐蝕和刻蝕技術(shù)把設(shè)計的微納圖案轉(zhuǎn)移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難以滿足當前對線寬越來越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設(shè)備又極其昂貴。為了擺脫光學衍射極限和克服高成本的限制，一種操作簡單，成本低廉的納米壓印技術(shù)產(chǎn)生了。納米壓印的技術(shù)核心是充分利用機械能將剛性模板上的圖案轉(zhuǎn)到抗蝕劑上，之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉(zhuǎn)移到基板上。到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來...
白光干涉儀目前在3D檢測領(lǐng)域是精度高的測量儀器之一，在同等系統(tǒng)放大倍率下檢測精度和重復(fù)精度都高于共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡，在一些納米級和亞納米級的超精密加工領(lǐng)域，除了白光干涉儀，其它的儀器無法達到其測量精度要求。儀器的測量原理：本儀器是利用光學干涉原理研制開發(fā)的超精密表面輪廓測量儀器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分威兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光，并由成像系統(tǒng)在CCD相機感光面形成兩個疊加的像。由于兩束光相互干涉，在C...
接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統(tǒng)科學、能源科學技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，于2016年7月12日啟用。接觸式光刻機的使用原理：其實在我國對于接觸式光刻機，曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5gm左右。該設(shè)備的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子...
電容位移傳感器的原理是利用力學變化使電容器中其中的一個參數(shù)發(fā)生變化的方法實現(xiàn)信號的變化的。該傳感器由目標和探針兩個傳感板組成電容器。當電容器之間的距離發(fā)生改變時，電容器的電容量就會發(fā)生改變，使用適當?shù)目刂破骶蜁y出兩個傳感板距離的變化。測量原理特性：采用電容式測量原理，需要潔凈和干燥的環(huán)境，否則傳感器探頭和被測物體之間的物質(zhì)介電常數(shù)的變化會影響測量結(jié)果。我們也推薦任何時候，都盡量縮短探頭到控制器之間的電纜長度。對于標準設(shè)備，配備前置放大器，電纜長度設(shè)定為1m。如果配備外置放大...
掩模對準曝光機的試驗方法：1、環(huán)境條件檢查：a、溫度、相對濕度檢查：試驗期間，用精度不低于1級的干濕球濕度計每4h測試一次環(huán)境的溫度，相對濕度。千濕球濕度計應(yīng)置放在與工作臺高度一致，沒有氣流的地方；b、潔凈度檢查：試驗期間，每4h測試一次潔凈度。選用測試精度能滿足相應(yīng)潔凈度等級的光學粒子計數(shù)器檢測有效工作區(qū)域的潔凈度；c、地面振動檢查：試驗期間，測試一次地面振動幅度，振動分析儀的拾振裝置應(yīng)置放于工作臺機座附近。2、外觀檢查：a、用目視法進行外觀質(zhì)量檢查；b、用手感方法檢查移動...